株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せるナノインプリント技術での課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の講師からなる「ナノインプリント 」講座を開講いたします。
ナノインプリントの材料特性に着目し、基礎的知識の伝授から課題への要求事項まで解説,ナノインプリント技術を用いた光学部材への実例についても紹介します！
本講座は、2024年03月28日開講を予定いたします。
詳細：https://andtech.co.jp/seminars/1eec3ec8-5812-6c40-b853-064fb9a95405
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Live配信・WEBセミナー講習会 概要
テーマ：ナノインプリントにおける樹脂設計と離型性・欠陥制御の向上、光学部材への展望
～高屈折率硬化性樹脂の開発、インプリント材料の装置評価、AR/VR/回折格子への応用展開～
開催日時：2024年03月28日(木) 10:30-17:15
参 加 費：55,000円（税込） ※ 電子にて資料配布予定
U R L ：https://andtech.co.jp/seminars/1eec3ec8-5812-6c40-b853-064fb9a95405
WEB配信形式：Zoom（お申し込み後、URLを送付）
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セミナー講習会内容構成
ープログラム・講師ー
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第1部 ナノインプリントの基礎と、AR/VR デバイスへの応用
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●講師 大阪府立大学 名誉教授／大阪公立大学 特選研究員／応用物理学会 ナノインプリント技術研究会 顧問／3次元ヘテロインテグレーション研究会 (3DHI) 理事 平井 義彦 氏
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第2部 ナノインプリント装置と評価
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●講師 リソテックジャパン株式会社／大阪公立大学 ナノサイエンス研究所 所長 博士（工学）／大学院工学研究科 客員教授 関口 淳 氏
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第3部 光学系硬化用樹脂の開発動向と、ナノインプリント材料への応用
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●講師 三菱ガス化学株式会社 東京研究所・主任研究員 田中 博康 氏
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第4部 ナノインプリントを用いた光学部材の開発研究【仮】
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●講師 産業技術総合研究所 研究主幹 栗原 一真 氏
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本セミナーで学べる知識や解決できる技術課題
・UVナノインプリント、離型プロセスのメカニズムに関わる物理化学
・ナノインプリントの応用に関わる光学応用技術
・光学デバイスに使用される樹脂材料について
・硬化性材料の光学デバイスへの適用について
・ナノインプリントに用いられているポリマーとそれに対する要求特性について
・ナノインプリントプロセスの応用が期待されるデバイス作製について
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本セミナーの受講形式
WEB会議ツール「Zoom」を使ったライブLive配信セミナーとなります。
詳細は、お申し込み後お伝えいたします。
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株式会社AndTechについて
化学、素材、エレクトロニクス、自動車、エネルギー、医療機器、食品包装、建材など、
幅広い分野のR&Dを担うクライアントのために情報を提供する研究開発支援サービスを提供しております。
弊社は一流の講師陣をそろえ、「技術講習会・セミナー」に始まり「講師派遣」「出版」「コンサルタント派遣」
「市場動向調査」「ビジネスマッチング」「事業開発コンサル」といった様々なサービスを提供しております。
クライアントの声に耳を傾け、希望する新規事業領域・市場に進出するために効果的な支援を提供しております。
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株式会社AndTech 技術講習会一覧
一流の講師のＷＥＢ講座セミナーを毎月多数開催しております。
https://andtech.co.jp/seminars/search
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株式会社AndTech 書籍一覧
選りすぐりのテーマから、ニーズの高いものを選び、書籍を発行しております。
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株式会社AndTech コンサルティングサービス
経験実績豊富な専門性の高い技術コンサルタントを派遣します。
https://andtech.co.jp/business-consulting
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本件に関するお問い合わせ
株式会社AndTech 広報PR担当 青木
メールアドレス：pr●andtech.co.jp（●を@に変更しご連絡ください）
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下記プログラム全項目（詳細が気になる方は是非ご覧ください）
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第1部 ナノインプリントの基礎と、AR/VR デバイスへの応用
【講演主旨】
光ナノインプリントと離型プロセスに関するメカニズムの基礎をしっかり理解します。そのうえで、先端半導体、メタバースなどへの応用展開やディープラーニングによるプロセス・材料設計などの最新の動向についても紹介します。
【プログラム】
1.光ナノインプリントの基礎
1.1 光ナノインプリントの原理・特徴と長短所
1.2 樹脂の流動と充填
1.3 UV照射とパターンサイズ
1.4 UV硬化の基礎と材料特性
2.AR/VRグラスの原理と高屈折材料の開発動向
2.1 AR/VR用光導波路の構造
2.2 ナノインプリントによる作製技術
3.離型のメカニズムとARグラス用傾斜型回折格子の離型
3.1 離型の基本メカニズム
(1)破壊力学によるシミュレーション
(2)離型のメカニズムとレジストの密着力、摩擦力
(3)モールド側壁傾斜角と離型性
(4) 離型欠陥の低減方法
3.2 傾斜回折格子の離型方法と欠陥予測
(1)垂直離型
(2)ピール離型
(3)回転離型
(4)ロール離型
4.1 光デバイス、メタバースへの応用
4.2 半導体への応用
4.3 バイオ、その他への応用
【質疑応答】
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第2部 ナノインプリント装置と評価
【講演主旨】
ナノインプリント・リソグラフィの概要、インプリント用レジスト材料、および評価技術について解説します。
【プログラム】
1.1 プロセス評価用ナノインプリント装置
1.2 実験用熱・光対応ナノインプリント装置
1.3 実験用熱インプリント装置
1.4 実験用ロールTOロールナノインプリント装置
1.5 実験用 卓上インプリント装置
1.6 ナノインプリント用アライメント装置
2．ナノインプリント法によるモスアイ構造製作のための評価装置の開発
【質疑応答】
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第3部 光学系硬化用樹脂の開発動向と、ナノインプリント材料への応用
【講演主旨】
光学デバイスの小型高機能化やメタバースの進展により光学系硬化用樹脂への期待が高まりを見せ、とりわけ、ナノインプリント技術の展開が期待されている。
本講座では、高屈折率硬化性樹脂『LumipluS』のナノインプリントプロセスへの適用例をもとに、インプリント材料に求められる材料特性、離形・欠陥制御などのナノインプリントプロセスにおける要求事項を解説する。また、回折素子、XRデバイスなどの事例をもとに、今後のインプリントプロセスの展望についても解説する。
【プログラム】
1.光学デバイスへの樹脂材料の展開
1.1 光学デバイスに使用される樹脂材料
1.2 三菱ガス化学の光学材料開発
1.3 光学デバイスへの硬化性樹脂の展開
2.2 ナノインプリント技術の展開
2.3 インプリント成形に求められる材料特性
2.4 微細構造賦形のための転写技術
3.光学デバイスにおけるナノインプリント技術の将来展望
3.1 回折素子への応用
3.2 XR向けインプリント材料
3.3 メタレンズへの応用
【質疑応答】
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第4部 ナノインプリントを用いた光学部材の開発研究【仮】
【講演主旨】
【プログラム】
※現在、講師の先生に最新のご講演プログラムをご考案いただいております。完成次第本ページを更新いたします。
＊ 本ニュースリリースに記載された商品・サービス名は各社の商標または登録商標です。
＊ 本ニュースリリースに記載された内容は発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがあります。
以 上
配信元企業：株式会社ＡｎｄＴｅｃｈ
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